P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 사용의 세부 사항이 명확히 밝혀져

사용의 세부 사항이 명확히 밝혀져 있거나 특정 어플리케이션 도메인에서 사용이 제한되는 하위 표준들이 HSMS의 보조적인 역할을 하도록 되어 있다

本スタンダードは，プロセス装置または測定装置とフロントオープニング・ボックスとのインタフェースについて装置側の要求事項について規定する。

SEMI M54-0304 (Reapproved 0611)

本文書の目的は， テスト装置から歩留り管理システムに，特定のデータを渡すためのフォーマットの標準化である。歩留り管理システムは，データサーバの一種であり，ベアウェーハやパターン付きウェーハの欠陥データを管理するシステムである。

P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 사용의 세부 사항이 명확히 밝혀져global Micropatterning Committee200598global Audits and Reviews Subcommittee200510www. semi. org200511CD ROM19979 2005 Referenced SEMI Standards SEMI P1 Specification for Hard Surface Photomask Substrates SEMI P22 Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition