P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded 6-0703 (Reapproved 0218)

6-0703 (Reapproved 0218)

11-1106 (technical revision)

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Define and develop lithography alignment strategy for C2C

P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded 6-0703 (Reapproved 0218)global Micropatterning Committee2008118global Audits and Reviews Subcommittee20082www. semi. org20083CD ROM20043200511 2001SEMIData Path Task ForceGDSIIGDSIIIC201632 GDSII1 163264 SEMI Data Path Task ForceInternational SematechEDASematech Referenced SEMI Standards None.