n-Heptan - für HPLC 1L WARCHEM excludeDEFULL Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven Entfernung
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Description
Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven Entfernung von Oxidschichten in mikroelektronischen Prozessen – ausschließlich unter Reinraum- und Hochsicherheitsbedingungen
Der Griff erleichtert die Handhabung des Trichters und ermöglicht eine präzise Steuerung des Wasserstrahls
Von oxidierenden und leicht entzündlichen Stoffen fernhalten
in der pharmazeutischen Industrie zur Herstellung von Arzneimitteln und in der Lebensmittelindustrie zur Herstellung von Lebensmitteln eingesetzt werden
n-Heptan - für HPLC 1L WARCHEM excludeDEFULL Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven EntfernungTechnische Informationen zu chemischen Reagenzien: Chemische Formel: CH CAS Nummer: 142 82 5 EG Nummer: 205 563 8 Synonyme: n Heptan Genre: Spektral rein Reinheit: 99,5 % Molmasse: 100,21 g mol Dichte: 0,68 g ml Aussehen: Farblose, klare Flssigkeit Verpackung: Braunglasflasche Mindesthaltbarkeit: Mindestens 12 Monate ab Lieferung Beispiele fr professionelle Anwendungen in verschiedenen Branchen: Spektroskopie: n Heptan in spektral reiner Qualitt wird
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